【等離子Plasma】低溫等離子體的特殊性能可以對金屬、半導體、高分子材料等進行表面改性。材料表面改性的等離子體改性技術已廣泛應用于電子、機械、紡織、生物醫(yī)學工程等領域。
目前，低溫等離子體與材料相互作用的研究已經發(fā)展成為國際上活躍的領域。研究其相互作用的物理化學過程機理，是發(fā)展微電子學、固體表面改性、功能材料等材料領域里的重要課題。低溫等離子體高的活性，在室溫下可以引起多種化學反應或物理摻雜，而基質材料的本體性能不受影響。
等離子體化學氣相沉積（CVD）物理氣相沉積（PVD）方法已廣泛用于制備功能材料，顯示出低溫等離子體對材料表面改性有著較大的優(yōu)勢。【常壓等離子設備】
通過低溫等離子體表面處理，材料表面發(fā)生多種的物理，化學變化，或產生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團，使材料的親水性、粘結性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。
低溫等離子體技術在有機材料上的應用有很大的優(yōu)勢，它的優(yōu)點如下：①屬于干式工藝，省能源，無公害，滿足節(jié)能和環(huán)保的需要；②時間短，效率高；③對所處理的材料無嚴格要求，具有普遍適應性；④可處理形狀復雜的材料，材料表面處理的均勻性好；⑤反應環(huán)境溫度低；⑥對材料表面的作用僅涉及幾到幾百納米，材料表面性能改善的同時，基體性能不受影響。【真空等離子設備】
