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等離子清洗機(jī)在哪些半導(dǎo)體制造過(guò)程中是必需的
2024.05.21
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等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體制造過(guò)程中是必需的,主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)環(huán)節(jié):

  1. 掩膜清洗:在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,等離子清洗機(jī)能夠使用等離子體去除掩膜表面的污染物,確保掩膜的準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性。

  2. 晶圓清洗:在晶圓制造過(guò)程中,無(wú)機(jī)物和有機(jī)物的污染物可能附著在晶圓表面,影響芯片的質(zhì)量和性能。等離子清洗機(jī)可以利用高能等離子體產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng)從芯片表面去除這些污染物,從而提高芯片的質(zhì)量和可靠性。

  3. 金屬清洗:在半導(dǎo)體組裝過(guò)程中,需要清潔金屬片和其他金屬部件。等離子體清洗機(jī)能夠使用等離子體去除金屬表面的污染物,如氧化膜、油脂和其他有機(jī)物,確保金屬表面的清潔和附著力。

  4. 導(dǎo)線框架封裝:在封裝過(guò)程中,等離子清洗機(jī)可以提高芯片與環(huán)氧樹(shù)脂塑料包裝材料之間的焊接質(zhì)量和粘結(jié)強(qiáng)度。此外,它還可以用于清洗焊接盤(pán),改善焊接條件,提高焊接線的可靠性和產(chǎn)量。

  5. BGA、PFC基板清洗:基板上的等離子體表面在安裝前進(jìn)行處理,可以清潔、粗化、激活焊盤(pán)表面,大大提高安裝成功率。

  6. 光刻膠去除:在半導(dǎo)體制造工藝中的光刻步驟中,如果在硅晶材料上施加的光敏層出現(xiàn)誤刻和區(qū)域不均的情況,需要使用去除光刻膠的技術(shù),低溫等離子體清洗技術(shù)在光刻膠去除方面的效果被證明是有效的。

綜上所述,等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體制造的多個(gè)關(guān)鍵步驟中都發(fā)揮著重要的作用,對(duì)于保證半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和性能至關(guān)重要。

真空等離子清洗機(jī)


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