不同等離子氣體對(duì)引線框架清洗的效果
氬氣等離子清洗
氬氣等離子清洗主要通過物理濺射作用去除表面污染物，對(duì)表面損傷較小。
適用于對(duì)表面粗糙度和完整性要求較高的引線框架。
清洗后表面清潔度較高，但可能殘留一些難以通過物理方法去除的污染物。
氧氣等離子清洗
氧氣等離子清洗通過化學(xué)反應(yīng)去除有機(jī)物污染，清洗效果徹底。
適用于有機(jī)物污染較重的引線框架。
清洗后表面可能產(chǎn)生一定的氧化層，但可以通過后續(xù)處理去除。
氮?dú)獾入x子清洗
氮?dú)獾入x子清洗既能去除表面油脂和塵埃，又能保持表面的完整性。
適用于對(duì)表面要求較高的引線框架。
清洗后表面清潔度較高，且具有一定的活化作用。
氫氣等離子清洗
氫氣等離子清洗通過還原反應(yīng)去除氧化物污染，清洗效果顯著。
適用于氧化物污染較重的引線框架。
清洗后表面活化作用較強(qiáng)，但需要注意氫氣的安全性。
